水素除去裝置 -プラント?エンジニアリング分野
液化ヘリウムの原料ガス中の水素成分を、常溫のゲッター剤で除去（登録特許第5074433號）
本特許は、ヘリウム液化裝置の原料であるヘリウムガス中に含まれる水素ガス成分を除去する裝置に関するものです。
ヘリウムガスを液化するにあたり、この液化裝置の前段に設けられた精製裝置において除去できない水素ガス成分は、液化裝置內において閉塞による不具合の原因となります。
本裝置では、この水素ガス成分を、常溫のゲッター剤で除去できます。また、これまで必要であった、吸著材またはゲッター剤を冷卻もしくは加熱させる裝置が不要となり、裝置はコンパクトとなりました。
特長
- 常溫のゲッター剤で、水素ガスを除去できます。
- 連続して水素ガスを除去することができます。これにより、循環回収系內におけるヘリウムガス中の水素ガス成分の濃縮を防止し、液化裝置の安定した運転が可能となります。
- 裝置構成が単純で、コンパクトです。
対象裝置
